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七星华创 M-RIE金属刻蚀系统

品牌:七星华创
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七星华创 M-RIE金属刻蚀系统产品介绍

描述:


1. 设备采用集散控制系统。
2. 主机采用工业控制微机。
3. 可通过以太网与工作站联网。
4. 主要结构为一个六边形传送室,两个片盒室,配有刻蚀反应室,边检室,去胶室。
产品选型详见订货须知。

七星华创 M-RIE金属刻蚀系统技术参数

产品参数适合硅片尺寸:6刻蚀介质:Al/0.5~1% Si/0.5~4% Cu、Ti、TiN刻蚀速度:Al-Si-Cu>5000埃 TiN>2000埃不均匀性:片内 ≤±5% 片间 ≤±5%CD控制:<0.05μm剖面控制:≥85°选择性:Al : PR > 2 : 1 , Ti/TiN : SiO[sub]2[/sub] > 8 : 1 , Ti/TiN : BPSG > 6 : 1真空度:反应室 5E-4 Pa ,硅片传送室及片盒室10 Pa终点检测:计算机数据处理,全自动终点控制。

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