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控制系统 - 处理装置 - 七星华创

七星华创平板型等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）

品牌：七星华创

生产商：北京七星华创电子股份有限公司

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七星华创平板型等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）产品介绍

产品介绍：

设备用于2"～6"硅片淀积SiO₂、Si₃N₄等工艺。

描述：

1.设备除装卸片方式为手动外，控制微机对工艺过程及全部参数自动控制。
2.具有良好的工艺性能，使用范围广泛。
产品选型详见订货须知。

七星华创平板型等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）技术参数

产品参数结构形式：平板型装片能力：Φ50mm 19片反应室极限真空度：≤0.67Pa工艺压强范围：13.3～266Pa淀积温度：200～450℃温度精度：±2℃（φ200mm内）RF电源：13.56MHz 500～600W生长速度：氮化硅 50～150埃；氧化硅 100～300埃膜厚均匀性：片内 ≤±3％片间 ≤±3％批间 ≤±3％

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