七星华创 卧式PECVD平板型等离子增强化学气相淀积系统产品介绍
产品介绍:
供6"硅片淀积Poly-Si、Si3N4或SiO2薄膜用。
描述:
1.用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。
2.采用进口压力控制系统,闭环控制,稳定性高。
3.采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路洁净度及气密性。
4.具有完善的报警功能及安全互锁装置。
5.具有超温报警与欠温报警、MFC报警、反应室压力报警、RF报警、高压空气压力报警、氮气压力报警等。
产品选型详见订货须知。
七星华创 卧式PECVD平板型等离子增强化学气相淀积系统技术参数
产品参数结构形式:单管或多管卧式热壁型淀积薄膜:多晶硅、氮化硅、二氧化硅生产率:100片/炉膜厚度均匀性:片内 ≤±5% 片间 ≤±7% 批间 ≤±7%温度使用范围:100~400℃温区长度及精度:200~400℃ ±1℃/760mm系统极限真空度:优于0.7Pa(5×10[sup]-3[/sup]乇)工作压力范围:13Pa~300Pa 连续可调,闭环控制联系七星华创
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电话: | 010-64361831 |
传真: | 010-64362923 |
地址: | 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
北京市朝阳区广渠门外大街8号优士阁B座1703 电话: 010-58612588 传真: 010-58612665
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