七星华创 等离子清洗机产品介绍
产品介绍:
设备是用等离子技术干法清洗各种不同规格的工件,可广泛应用于半导体、集成电路等器件制造中的不同工序。
描述:
1、 采用全新的射频电极设计,设备有三种等离子体模式,可按需要进行选择。
2、 设备工作在顺流等离子体模式时,具有无损伤清洗的特点。
3、 工艺气体可选择氧气去除有机物污染,选择氩气去除颗粒污染。
4、 具有大批量生产的结构设计。
系统组成:
1、 系统包括反应室、射频电源及匹配系统、真空系统、工艺气路系统、压力控制系统、电气控制系统等。
2、 采用PLC控制,工艺过程全自动完成,具有良好的互锁和报警功能。
3、 管道、阀门及接头采用防腐进口件。
4、 设备操作简单,性能可靠。结构紧凑,占地面积小。
七星华创 等离子清洗机技术参数
产品参数腔体尺寸:450mm×450mm×600mm(W×H×D)清洗工件尺寸:300mm×120mm×10mm(W×L×H)反应室极限真空:1Pa射频电源:13.56MHz 50~600W(可调)工作气体:氩气、氮气、氧气进出料方式:手动控制方式:触摸屏,PLC,工艺过程自动联系七星华创
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电话: | 010-64361831 |
传真: | 010-64362923 |
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