七星华创 单管双温区立式炉产品介绍
产品介绍:
设备用于半导体器件及集成电路制造过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的热加工设备。
描述:
1. 关键件全部采用进口件,具有高可靠性。
2. 炉体采用四段加热,四点控温以确保双温区工作环境要求。
3. 采用进口智能控制器,可输出四个开关量,对炉温、阀门动作进行自动控制,并管理全部工艺时序,可编辑存贮九条工艺曲线。具有高抗干扰能力。
4. 具有多种工艺管路,可供用户随意灵活配置。
5. 具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能。
七星华创 单管双温区立式炉技术参数
产品参数工艺管外径:可配Φ120mm操作温度:最高1150℃上恒温区工作温度:950℃下恒温区工作温度:900~1100℃上恒温区长度及精度:100mm/±10℃上恒温区长度及精度:150mm/±10℃升温时间:从室温到1150℃<60min联系七星华创
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传真: | 010-64362923 |
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