七星华创 反应离子刻蚀机（RIE）

产品介绍：

设备用于2″～6″硅片0.8～0.35μm工艺，此类设备可广泛应用于半导体器件、电力电子器件、光电子、太阳能电池、微机械等诸多领域。

描述：

反应离子刻蚀是指利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体，通过辉光放电使之形成低温等离子体，对晶片表面未被掩蔽部分进行腐蚀的设备，是利用活性离子对衬底的物理轰击与化学反应的双重作用进行刻蚀。
本设备主要有计算机控制系统、射频系统、分子泵真空系统、压力控制系统、工艺管路系统、恒温水循环系统组成。设备操作简便，工艺参数显示、控制、查找方便清晰。设备配置合理，可靠性高。